工藝過程成像探頭圖像處理一體化系統(tǒng)、相當(dāng)于實(shí)時(shí)顆粒錄影顯微鏡PVM能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)顆粒的形貌和尺寸大小做實(shí)時(shí)的定性定量的準(zhǔn)確測(cè)量，進(jìn)而加深對(duì)過程的了解和實(shí)現(xiàn)過程的優(yōu)化控制及放大。除了固體結(jié)晶以外，對(duì)其他非固體的領(lǐng)域，例如氣泡，泡沫，乳狀液，液滴，聚合物，流場(chǎng)等刻畫也具有極其廣泛的應(yīng)用前景。2D工藝過程成像探頭系統(tǒng)它適用于生產(chǎn)中對(duì)過程的研究，產(chǎn)品開發(fā)及其改進(jìn)。特別適用于監(jiān)測(cè)，優(yōu)化和控制高顆粒濃度過程及非透明顆粒的生產(chǎn)過程。
工藝過程成像探頭圖像處理一體化系統(tǒng)/技術(shù)指標(biāo)
測(cè)量范圍：1微米到2000微米（標(biāo)準(zhǔn)）；可擴(kuò)展到5毫米(可根據(jù)用戶需求定制；與鏡頭放大倍數(shù)、相機(jī)等相關(guān))
測(cè)量方式：實(shí)時(shí)在線測(cè)量晶體形貌、平均尺寸、顆粒大小統(tǒng)計(jì)分布(D10、D50、D90、D120等)、累計(jì)分布、長(zhǎng)徑比等（可根據(jù)用戶需求定制顯示參數(shù)）
測(cè)量濃度：可高達(dá)50%固體顆粒濃度(與顆粒形狀相關(guān))
工作溫度：-10℃ - 120℃（標(biāo)準(zhǔn)；可根據(jù)用戶需求定制）
防爆設(shè)計(jì)、探頭加長(zhǎng)、數(shù)據(jù)線可延長(zhǎng)100米（均可根據(jù)用戶需要定制）
工藝過程成像探頭圖像處理一體化系統(tǒng)/性能特征
特殊設(shè)計(jì)的探頭(相機(jī)/鏡頭/光源)可廣泛地適用于許多困難物系（尤其是非透明顆粒物系及高固體濃度）。 探頭具有耐腐蝕性，能夠?qū)h值1~12范圍內(nèi)的樣品進(jìn)行測(cè)量。
由于特殊的光源設(shè)計(jì),本系統(tǒng)可有效地防止顆粒沉積/粘結(jié)于探頭上。
根據(jù)不同物系及客戶要求,本系統(tǒng)可設(shè)計(jì)不同方案(包括氣體清理系統(tǒng))。
強(qiáng)大的圖像處理功能可實(shí)現(xiàn)顆粒多尺度分割, 計(jì)算顆粒形狀參數(shù) (主元素分析和傅立葉變換)，聚類分析和定量產(chǎn)品/過程控制。
工業(yè)圖像分析與處理軟件
本款軟件尤其適用于結(jié)晶實(shí)驗(yàn)和制藥過程的圖像采集和分析。
主要功能包括：圖片預(yù)處理，分割，形狀描述，分析，分類及質(zhì)量控制。由于此軟件能夠連接數(shù)字高速照相機(jī)，從而獲得到實(shí)時(shí)的在線圖像。應(yīng)用上述圖像功能分析所有的實(shí)時(shí)圖像以獲取滿意的結(jié)果。
工藝過程成像探頭圖像處理一體化系統(tǒng)、顆粒錄影顯微成像系統(tǒng)適用于下列應(yīng)用：
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控制晶體尺寸和形狀分布
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使用溶解度和介穩(wěn)區(qū)寬度(MSZW)開發(fā)結(jié)晶工藝
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對(duì)于在結(jié)晶過程中加入晶種的研究與優(yōu)化
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觀察和表征相分離（出油）
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直接觀察放大規(guī)模如何改變結(jié)晶行為
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使用結(jié)晶反溶劑控制晶體粒度與粒數(shù)
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優(yōu)化油水分離
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研究液滴均質(zhì)化、研磨 和配方
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解決實(shí)驗(yàn)室中的常見結(jié)晶問題
